Ống titan ánh kim loại màu xám đậm Mục tiêu mô đun đàn hồi thấp

133OD * 125ID * 2940L Bao gồm mặt bích Ống Titan Mục tiêu Titan Gr2 ASTM B861-06 a Vật liệu mục tiêu Lớp phủ chân không

Xu hướng phát triển công nghệ của vật liệu mục tiêu có quan hệ mật thiết với xu hướng phát triển của công nghệ phim trong các ngành ứng dụng hạ nguồn.Với sự cải tiến công nghệ của các sản phẩm hoặc linh kiện phim trong các ngành ứng dụng, công nghệ mục tiêu cũng nên thay đổi theo.Trong số tất cả các ngành công nghiệp ứng dụng, ngành công nghiệp bán dẫn có yêu cầu chất lượng khắt khe nhất đối với màng phún xạ mục tiêu.Ngày nay bánh xốp silicon 12 inch được sản xuất.Chiều rộng của các liên kết ngày càng giảm.Các nhà sản xuất Wafer yêu cầu kích thước lớn, độ tinh khiết cao, ít phân tách và hạt mịn đối với mục tiêu, yêu cầu mục tiêu phải có cấu trúc vi mô tốt hơn.Đường kính hạt tinh thể và độ đồng đều của mục tiêu được coi là những yếu tố chính ảnh hưởng đến tốc độ lắng đọng của màng.Màn hình phẳng (FPD) đã ảnh hưởng lớn đến thị trường máy tính và TV dựa trên ống tia âm cực (CRT) trong những năm gần đây, đồng thời cũng sẽ thúc đẩy nhu cầu thị trường và công nghệ mục tiêu của ITO.Mục tiêu ITO ngày nay có hai loại.Một là trộn oxit indium ở trạng thái nano và bột oxit thiếc rồi thiêu kết, hai là sử dụng mục tiêu hợp kim thiếc indium.Màng ITO có thể được chế tạo từ mục tiêu hợp kim thiếc indium bằng phún xạ phản ứng dòng điện một chiều, nhưng tốc độ phún xạ sẽ bị ảnh hưởng bởi quá trình oxy hóa bề mặt mục tiêu, và không dễ dàng có được mục tiêu mỏ vịt kích thước lớn.Về công nghệ lưu trữ, sự phát triển của các loại đĩa cứng có mật độ cao và dung lượng lớn đòi hỏi một số lượng lớn vật liệu phim bất đắc dĩ khổng lồ.Màng tổng hợp nhiều lớp CoF ~ Cu là một cấu trúc màng miễn cưỡng khổng lồ được sử dụng rộng rãi.

Ưu điểm chính
Mật độ thấp sức mạnh đặc điểm kỹ thuật cao
Tùy chỉnh yêu cầu tùy chỉnh
Chống ăn mòn tuyệt vời
Khả năng chịu nhiệt tốt
Hiệu suất nhiệt độ thấp tuyệt vời
Đặc tính nhiệt tốt
Mô đun đàn hồi thấp