133mm * 125mm * 840mm Titan Ống liền mạch Chống ăn mòn mục tiêu

Mục tiêu ống Titan Lớp phủ chân không Mục tiêu 133OD * 125ID * 840 Ống liền mạch ASTM B861-06 a

Mục tiêu của lớp phủ là nguồn phún xạ tạo thành các màng chức năng khác nhau trên bề mặt bằng phún xạ magnetron, mạ ion đa hồ quang hoặc các loại hệ thống phủ khác trong các điều kiện công nghệ thích hợp.Nói một cách đơn giản, vật liệu mục tiêu là vật liệu mục tiêu của cuộc bắn phá hạt tích điện tốc độ cao.Khi được sử dụng trong vũ khí laser năng lượng cao, mật độ công suất khác nhau, dạng sóng đầu ra khác nhau và bước sóng khác nhau của tia laser tương tác với các mục tiêu khác nhau, các hiệu ứng tiêu diệt và tiêu diệt khác nhau sẽ được tạo ra.Ví dụ, lớp phủ phún xạ magnetron bay hơi là lớp phủ bay hơi được gia nhiệt, màng nhôm, v.v. Thay đổi vật liệu mục tiêu khác nhau (chẳng hạn như nhôm, đồng, thép không gỉ, titan, mục tiêu niken, v.v.), có thể nhận được các hệ thống phim khác nhau (chẳng hạn như siêu cứng , màng hợp kim chống mài mòn, chống ăn mòn, v.v.)
Trong những năm gần đây, màn hình phẳng (FPD) đã tác động lớn đến thị trường màn hình máy tính và TV do ống tia âm cực (CRT) thống trị, điều này cũng sẽ thúc đẩy công nghệ và nhu cầu thị trường của vật liệu mục tiêu ITO.Có hai loại mục tiêu iTO ngày nay.Một loại được thiêu kết bằng cách trộn oxit indium và bột oxit thiếc ở trạng thái nanomet, loại kia được thiêu kết bằng mục tiêu hợp kim thiếc indium.Màng ITO có thể được điều chế bằng phương pháp phún xạ phản ứng dòng điện một chiều trên các mục tiêu hợp kim indium-thiếc, nhưng bề mặt mục tiêu sẽ bị oxy hóa và tốc độ phún xạ sẽ bị ảnh hưởng, và khó có được mục tiêu vàng kích thước lớn.Ngày nay, phương pháp đầu tiên thường được áp dụng để sản xuất vật liệu đích ITO, sử dụng lớp phủ phún xạ phản ứng L} IRF.Nó có tốc độ lắng đọng nhanh.Và có thể kiểm soát chính xác độ dày của màng, độ dẫn điện cao, tính nhất quán tốt của màng, độ bám dính mạnh với chất nền và các ưu điểm khác l.Nhưng việc tạo mục tiêu rất khó vì oxit indium và oxit thiếc không dễ dàng thiêu kết với nhau.Nói chung, ZrO2, Bi2O3 và CeO được sử dụng làm phụ gia thiêu kết và có thể thu được vật liệu mục tiêu với mật độ 93% ~ 98% giá trị lý thuyết.Hiệu suất của màng ITO được hình thành theo cách này có liên quan rất nhiều đến các chất phụ gia.Các nhà khoa học Nhật Bản đã sử dụng Bizo làm chất phụ gia, và Bi2O3 nóng chảy ở 820Cr, và một phần nhiệt độ thiêu kết vượt quá L500 ℃ đã bị bay hơi, do đó có thể thu được mục tiêu ITO tương đối tinh khiết trong điều kiện thiêu kết pha lỏng.Và nguyên liệu thô oxit không nhất thiết phải là các hạt nano, điều này có thể đơn giản hóa quá trình ban đầu.Điện trở suất của phim ITO thu được bằng cách sử dụng các mục tiêu như Chuan là 8,1 × 10n-cm, gần với điện trở suất của phim ITO nguyên chất.Kích thước của FPD và thủy tinh dẫn điện khá nóng, và chiều rộng của thủy tinh dẫn điện thậm chí có thể đạt tới 3133_.Để cải thiện tỷ lệ sử dụng của mục tiêu, các mục tiêu ITO có hình dạng khác nhau, chẳng hạn như hình trụ, đã được phát triển.Năm 2000, Ủy ban Kế hoạch Phát triển Nhà nước và Bộ Khoa học và Công nghệ đã đưa các mục tiêu lớn của ITO vào Hướng dẫn Các lĩnh vực Chính của Công nghiệp Thông tin được Ưu tiên Phát triển Hiện nay.

Đặc trưng

1. Mật độ thấp và sức mạnh cao
2. Tùy chỉnh theo bản vẽ của khách hàng yêu cầu
3. Chống ăn mòn mạnh
4. Khả năng chịu nhiệt mạnh
5. Khả năng chịu nhiệt độ thấp
6. Khả năng chịu nhiệt